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    電鍍設(shè)備的基本工藝要求是什么？電鍍時(shí)的表面狀況和加工要求，選擇其中適當(dāng)?shù)膸讉€(gè)步驟，對零件表面進(jìn)行必要的修整加工，使零件具有平整光潔的表面，這是能否獲得優(yōu)質(zhì)鍍層的重要環(huán)節(jié)。鍍前處理工藝中，所用的主要設(shè)備有磨、拋光機(jī)、刷光機(jī)、噴砂機(jī)、滾光機(jī)和各類固定槽。電鍍處理是整個(gè)生產(chǎn)過程中的主要工藝。
    根據(jù)零件的要求，有針對性選擇某一種或幾種單金屬或合金電鍍工藝對零件進(jìn)行電鍍或浸鍍等加工，以達(dá)到防蝕、耐磨和美觀的目的。電鍍處理過程中所用的設(shè)備主要有各類固定槽、滾鍍槽、掛具、吊籃等。

    鍍后處理是對零件進(jìn)行拋光、出光、鈍化、著色、干燥、封閉、去氫等工作，根據(jù)需要選用其中一種或數(shù)種工序使零件符合質(zhì)量要求。鍍后處理常用設(shè)備主要有磨、拋光機(jī)、各類固定槽等。

    1、鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應(yīng)有良好的結(jié)合力。

    2、鍍層應(yīng)結(jié)晶細(xì)致、平整、厚度均勻。

    3、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的厚度和盡可能少的孔隙。

    4、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的各項(xiàng)指標(biāo)，如光亮度、硬度、導(dǎo)電性等。

    5、電鍍時(shí)間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。

    6、環(huán)境溫度為-10℃～60℃。

    7、輸入電壓為220V±22V或380V±38V。

    8、水處理設(shè)備大工作噪聲應(yīng)不大于80dB(A)。

    9、相對濕度(RH)應(yīng)不大于95%。

    10、原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。